GaN/窒化ガリウムMGZ31N65
GaN/窒化ガリウム

GaN/窒化ガリウム - MGZ31N65

650V, 6.5A, RDS (on)(typ.)= 250mΩ@VGS = 8V
非常に低いQRR
交差損失の低減
RoHS準拠およびハロゲンフリー要件のパッケージ

製品型番: MGZ31N65

製品紹介

GaN、中国語名:窒化ガリウムは、常温常圧ではウルツ鉱構造です。現在の半導体照明における青色発光ダイオードの核心材料です。工業的にはMOCVDおよびHVPE装置を用いてエピタキシャル成長させます。

GaN半導体材料には2つの基本構造があります:ウルツ鉱(Wurtzite、WZ)と閃亜鉛鉱(Zinc blende、ZB)です。常温常圧ではウルツ鉱構造のみが安定相です。ウルツ鉱構造は2つの六方最密充填副格子がc軸方向に3c/8だけ平行移動して構成され、所属する空間群はP63mcです。


一、GaN/窒化ガリウム - MGZ31N65の特性:

650V, 6.5A, RDS (on)(typ.)= 250mΩ@VGS = 8V
非常に低いQRR
交差損失の低減
RoHS準拠およびハロゲンフリー要件のパッケージ


二、GaN/窒化ガリウム - MGZ31N65の応用:

電源アダプター

低消費電力SMPS

照明機器