Датчик расхода жидкости - SLQ-QT105
Диапазон измерения до 120 мл/мин (углеводородные жидкости)
Высокое разрешение даже в диапазоне малых расходов
Быстрое время отклика до 30 мс
Цифровой интерфейс RS485
Для измерения фоторезистов и растворителей
Прямая труба, без подвижных частей
Гарантированная чистота
Отличная химическая стойкость, инертные материалы
Материалы, контактирующие с жидкостью: PCTFE, только кварцевое стекло
Максимальное рабочее давление 3 бар (возможно повышение по специальному запросу)
Описание продукта
1. Описание датчика расхода жидкости SLQ-QT105
Для высокотехнологичных потребностей систем нанесения покрытий мы представляем новый продукт SLQ-QT105Датчик расхода жидкости— это датчик полупроводникового класса для измерения расхода углеводородов со скоростью ниже 120 мл/мин, таких как фоторезисты и растворители. Благодаря проверенной технологии тепловых микро-датчиков, он открывает новые высоты в чувствительности, стабильности и скорости.Датчик расхода жидкостиЧрезвычайно короткое время отклика SLQ-QT105 позволяет точно контролировать высокоскоростные динамические процессы, например, быструю подачу материала.Датчик расхода жидкостиSLQ-QT105 оснащен трубкой из PFA размером 4x3 мм, не имеет подвижных частей и обеспечивает неинвазивное измерение в стенке прямой трубы. Датчик оснащен интеллектуальным цифровым интерфейсом, надежный протокол RS485 подходит для связи на большие расстояния и обладает большой емкостью шины.
2. Характеристики датчика расхода жидкости SLQ-QT105
-
Диапазон измерения до 120 мл/мин (углеводородные жидкости)
-
Высокое разрешение даже в диапазоне малых расходов
-
Быстрое время отклика до 30 мс
-
Цифровой интерфейс RS485
-
Для измерения фоторезистов и растворителей
-
Прямая труба, без подвижных частей
-
Гарантированная чистота
-
Отличная химическая стойкость, инертные материалы
-
Материалы, контактирующие с жидкостью: PCTFE, только кварцевое стекло
-
Максимальное рабочее давление 3 бар (возможно повышение по специальному запросу)
3. Области применения датчика расхода жидкости SLQ-QT105
-
Контроль высокотехнологичных полупроводниковых процессов
-
Быстрые операции подачи