Газовый массовый расходомер-контроллер - Серия SFC5000

Газовый массовый расходомер-контроллер серии SFC5000Описание продукта

Газовый массовый расходомер-контроллер серии SFC5000 обеспечивает чрезвычайно точное и воспроизводимое управление в широком динамическом диапазоне измерений. Превосходные характеристики газового массового расходомера-контроллера основаны на инновационной технологии SensirionCMOSens®, которая интегрирует высокоточный сенсорный элемент и схемы аналоговой/цифровой обработки сигналов на одном КМОП-кремниевом чипе. На чипе сигнал датчика напрямую преобразуется в полностью откалиброванный цифровой сигнал с температурной компенсацией. Эти массовые расходомеры-контроллеры имеют аналоговые и цифровые интерфейсы. Кроме того, они реализуют новые дополнительные функции, такие как многогазовые измерения, идентификация газа и самодиагностика. Серия SFC5000 газовых массовых расходомеров-контроллеров является идеальным решением для различных применений в промышленности и медицине.

 

Газовый массовый расходомер-контроллер серии SFC5000Характеристики

• Высокая точность и воспроизводимость

• Отличная долгосрочная стабильность и надежность

• Широкий динамический диапазон (соотношение диапазонов 1000:1)

• Сверхбыстрое управление газовым потоком (время установления менее 50 мс)

• Многогазовые, многодиапазонные опции и функция идентификации газа

• Цифровые и аналоговые интерфейсы

• Гибкие варианты механических соединений: монтаж на листовом металле, VCR и VCO, Swagelok, C-/W-Seal и т.д.

• Калибровка прослеживается до стандартов NIST

• Выдающаяся ценность благодаря инновационной технологии CMOSens®

• Возможность изготовления по индивидуальному заказу

Газовый массовый расходомер-контроллер серии SFC5000Области применения

• Аналитическое оборудование (например, газовая хроматография, масс-спектрометрия)

• Медицинское оборудование (например, аппараты ИВЛ, анестезия)

• Промышленная автоматизация процессов (например, нанесение покрытий, термообработка)

• Полупроводниковая промышленность (например, процессы плазменного травления, осаждение тонких пленок)